فرآیندهای لایه نشانی تحت خلا یکی از روش های کوتینگ برای ایجاد یک لایه نازک روی سطح مد نظر در محیطی با فشار زیر اتمسفر می باشد که از یک منبع بخار اتمی یا مولکولی برای رسوب فیلم یا پوشش های نازک استفاده می کند. منبع بخار ممکن است از یک سطح جامد یا مایع (رسوب فیزیکی بخار – PVD) ، یا از یک بخار شیمیایی (رسوب بخار شیمیایی – CVD) باشد.
شرکت VCLshop (وی سی ال شاپ) جهت انجام خدمات فنی ، تجهیزات جانبی و لوازم مصرفی صنایع و شرکت های پوشش دهی وکیوم اعلام آمادگی می کند.
